加速电压：

离子束 500V～30kV，电子束 200V～30kV

离子源种类：

液态 Ga 离子源

分辨率：

离子束 ≤5nm@30kV；电子束≤1.0nm@15kV，≤1.6nm@1kV

探针电流：

≤65nA （FIB）；1pA～400nA（SEM）

金属沉积系统：

可在离子束、电子束诱导下进行Pt 等金属的沉积

可用探头：

二次电子探测器、高分辨背散射电子探测器

敏感样品传输系统：

防止样品转移过程中造成的污染

功能及特点：

主要材料的剥离、沉积、注入等加工工艺；除聚焦离子束（FIB）的功能外，兼具扫描电子显微镜（SEM）的成像功能。主要功能 TEM 透射电镜样品制备，SEM 扫描电子显微镜结构分析—可以进行二次电子形貌分析、背散射衬度分析。微纳结构加工 Easylift 纳米操作手、离子束切割等的配合下，可以进行各种微纳材料的搬运和加工。

测样要求：

非磁性块体和粉末材料

仪器安放地点：

深圳大学城北大园区 B 栋 110

仪器负责人：

南博文

联系电话：

18535961899

Email：

nanbw@pkusz.edu.cn

预约说明：

接受校内预约，校外预约请直接联系仪器负责人

收费说明：

见价目表